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簡(jian)要描述(shu):全(quan)譜直(zhi)讀(du)光譜(pu)儀(yi)采用標(biao)準(zhun)的(de)設計(ji)和制(zhi)造工(gong)藝技(ji)術(shu),采用全(quan)數(shu)字(zi)化技(ji)術(shu),替(ti)代龐大的(de)光電(dian)倍(bei)增管(PMT)模(mo)擬技(ji)術(shu),采用真(zhen)空光(guang)室設計(ji)及全(quan)數(shu)字(zi)激發(fa)光源、CMOS檢測(ce)器(qi),高(gao)速數(shu)據讀(du)出系統,使(shi)儀(yi)器(qi)具有較高(gao)的(de)性能(neng)、較低(di)檢(jian)出線(xian)、長(chang)期(qi)的(de)穩定(ding)性和(he)重(zhong)復(fu)性(xing)。
產(chan)品型(xing)號:CKQEM-034
廠(chang)商(shang)性質(zhi):生產(chan)廠(chang)家
更(geng)新(xin)時間(jian):2025-12-31
訪(fang) 問 量(liang): 3873產品分類(lei)
Product Category相(xiang)關(guan)文(wen)章
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| 品牌(pai) | 其(qi)他(ta)品牌(pai) | 應(ying)用(yong)領(ling)域 | 電(dian)子(zi)/電(dian)池(chi),綜(zong)合(he) |
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全(quan)譜直(zhi)讀(du)光譜(pu)儀(yi)采用標(biao)準(zhun)的(de)設計(ji)和制(zhi)造工(gong)藝技(ji)術(shu),采用全(quan)數(shu)字(zi)化技(ji)術(shu),替(ti)代龐大的(de)光電(dian)倍(bei)增管(PMT)模(mo)擬技(ji)術(shu),采用真(zhen)空光(guang)室設計(ji)及全(quan)數(shu)字(zi)激發(fa)光源、CMOS檢(jian)測(ce)器(qi),高(gao)速數(shu)據讀(du)出系統,使(shi)儀(yi)器(qi)具有較高(gao)的(de)性能(neng)、較低(di)檢(jian)出線(xian)、長(chang)期(qi)的(de)穩定(ding)性和(he)重(zhong)復(fu)性(xing)。
全(quan)譜直(zhi)讀(du)光譜(pu)儀(yi) 應(ying)用領(ling)域:冶(ye)金、鑄造、機械、科研(yan)、商(shang)檢、汽(qi)車、石(shi)化、造(zao)船(chuan)、電(dian)力(li)、航(hang)空、核電(dian)、金(jin)屬和有色冶(ye)煉(lian)、加工和(he)回收(shou)工業中(zhong)的(de)各種分析。
檢(jian)測(ce)基(ji)體(ti):鐵基(ji)、銅(tong)基(ji)、鋁基(ji)、鎳(nie)基(ji)、鈷(gu)基(ji)、鎂(mei)基(ji)、鈦(tai)基(ji)、鋅(xin)基(ji)、鉛基(ji)、錫基(ji)、銀(yin)基(ji)。
主(zhu)要(yao)技(ji)術(shu)參(can)數(shu):
波長(chang)範圍(wei):170nm~580nm
焦(jiao)距: 400mm
探(tan)測(ce)器(qi):高(gao)性能(neng)CCD陣(zhen)列(lie)
光(guang)源類(lei)型(xing):數(shu)字(zi)光源,高能(neng)預燃技(ji)術(shu)(HEPS)
放(fang)電(dian)頻(pin)率:100-1000Hz
放(fang)電(dian)電(dian)流:400A
工(gong)作(zuo)電(dian)源:220VAC 50/60Hz
儀(yi)器(qi)尺(chi)寸:720*860*500
儀(yi)器(qi)重(zhong)量(liang):約100kg(不(bu)含(han)真(zhen)空系(xi)統)
檢(jian)測(ce)時間(jian):依據樣品類(lei)型(xing)而定(ding),壹般(ban)25S左(zuo)右(you)
電(dian)極(ji):鎢(wu)材(cai)噴(pen)射(she)電(dian)
光(guang)學(xue)恒(heng)溫(wen):34℃± 0.3℃
氬(ya)氣要(yao)求(qiu):99.999%
氬(ya)氣進(jin)口(kou)壓力(li):0.5MPa
氬(ya)氣流量(liang):激(ji)發(fa)流量(liang)約3.5L/min
工(gong)作(zuo)溫(wen)度:10℃~35℃
工(gong)作(zuo)濕度:20%~85%
分(fen)析間(jian)隙:真(zhen)空軟件(jian)自(zi)動(dong)控(kong)制(zhi)、監(jian)測(ce)
技(ji)術(shu)特點:
1、高(gao)性(xing)能(neng)光學(xue)系統(tong)
《1》光(guang)學(xue)系統激(ji)發(fa)時產(chan)生的(de)弧(hu)焰由透鏡直接(jie)導(dao)入真(zhen)空光(guang)學室,實(shi)現光路 直(zhi)通(tong),有效(xiao)的(de)降低光路損(sun)耗;
《2》高(gao)性(xing)能(neng)光學(xue)系統(tong)設計(ji)及采用高(gao)精(jing)度的(de)光學元(yuan)件(jian)可精(jing)確測(ce)定(ding)非金(jin)屬(shu)元(yuan)素中C、P、S、N以及各(ge)種(zhong)元(yuan)素含(han)量(liang);
《3》測(ce)定(ding)結(jie)果準(zhun)確,重現及長(chang)期(qi)穩定(ding)性。
2、自(zi)動(dong)光路校準(zhun)
《1》自(zi)動(dong)光路校準(zhun),光(guang)學(xue)系(xi)統自動進(jin)行譜線(xian)掃(sao)描,確保接收(shou)的(de)正確性,免除(chu)繁(fan)瑣(suo)的(de)波峰掃(sao)描工(gong)作(zuo);
《2》儀(yi)器(qi)自(zi)動識別特定(ding)譜線(xian)與原存儲(chu)線(xian)進(jin)行對比,確定(ding)漂移位(wei)置(zhi),找出分析線(xian)當(dang)前的(de)像素位(wei)置(zhi)進(jin)行測(ce)定(ding)。
3、單(dan)板(ban)式透鏡(jing)設計(ji)
《1》真(zhen)空光(guang)學系統采用*的(de)入射窗(chuang)與真(zhen)空隔(ge)離,可在(zai)真(zhen)空系(xi)統工作(zuo)狀態(tai)下(xia)進(jin)行操作(zuo),光學透鏡采用單(dan)板式透(tou)鏡結(jie)構,日常(chang)清洗維(wei)護(hu)方便快(kuai)捷。
《2》在(zai)日(ri)常工作(zuo)中儀器(qi)無需(xu)維(wei)護(hu),也沒有消(xiao)耗(hao)品及更(geng)換(huan)零(ling)部件(jian)。
4、真(zhen)空室壹體(ti)化
《1》*的(de)光室結(jie)構設計(ji),使真(zhen)空室容積更(geng)小,抽(chou)真(zhen)空速度(du)不(bu)到(dao)普通(tong)光譜(pu)儀的(de)壹半(ban)。
《2》真(zhen)空室壹體(ti)化設計(ji)及高(gao)精(jing)密的(de)加工,使真(zhen)空保持(chi)的(de)更(geng)加持(chi)久(jiu)。
5、真(zhen)空防(fang)返油技(ji)術(shu)
《1》多級隔離的(de)真(zhen)空防(fang)返油技(ji)術(shu),采用真(zhen)空壓(ya)緊(jin)、擋板(ban)閥保證(zheng)真(zhen)空泵不(bu)工(gong)作(zuo)時間(jian)真(zhen)空光(guang)室與真(zhen)空*隔(ge)離。
《2》中(zhong)間(jian)增加了真(zhen)空濾油裝置(zhi),確保真(zhen)空泵中(zhong)油(you)不(bu)進(jin)入真(zhen)空室,保障(zhang)CCD檢(jian)測(ce)器(qi)及(ji)光學(xue)元(yuan)件(jian)在(zai)可靠(kao)環境(jing)中工(gong)作(zuo)。
6、開放式(shi)激(ji)發(fa)臺(tai)
《1》開放式(shi)激(ji)發(fa)臺(tai)機(ji)靈(ling)活(huo)的(de)樣品夾(jia)設計(ji),以滿足客戶(hu)現場的(de)各種形狀大小的(de)樣品分析。
《2》配合(he)使(shi)用(yong)小樣品夾(jia)具,線(xian)材(cai)分析可達(da)到1.5mm。
7、噴(pen)射(she)電(dian)極(ji)技(ji)術(shu):
《1》采用噴(pen)射(she)電(dian)極(ji)技(ji)術(shu),使(shi)用鎢(wu)材(cai)料電(dian)極(ji),在激發(fa)狀態(tai)下(xia),電(dian)極(ji)周(zhou)圍(wei)會(hui)形成氬氣噴(pen)射(she)氣流,這(zhe)樣在激發(fa)過程(cheng)中激(ji)發(fa)點周(zhou)圍(wei)不(bu)會(hui)與外界空氣接(jie)觸(chu),提高(gao)激發(fa)精(jing)度。
《2》配上*氬(ya)氣氣路設計(ji),大大降低(di)了(le)氬氣使(shi)用(yong)量(liang),也(ye)降(jiang)低(di)客(ke)戶(hu)使(shi)用(yong)成本(ben)。
8、集成(cheng)氣路模(mo)塊
《1》激(ji)發(fa)臺(tai)采用散(san)熱(re)性能(neng)好的(de)合(he)金(jin)材(cai)料制(zhi)作(zuo),不(bu)僅(jin)堅(jian)固(gu)、耐用而且清潔方便。
《2》供氣系(xi)統(tong)采用集成(cheng)氣路模(mo)塊,電(dian)極(ji)自吹掃(sao)功能(neng),為激(ji)發(fa)創造了良好的(de)環境(jing)。
9、全(quan)數(shu)字(zi)化激(ji)發(fa)光源:
《1》全(quan)數(shu)字(zi)激發(fa)光源,采用等離子(zi)激(ji)發(fa)光源,超穩定(ding)能(neng)量(liang)釋放(fang)在氬(ya)氣環(huan)境(jing)中激(ji)發(fa)樣品。
《2》全(quan)數(shu)字(zi)激發(fa)脈沖,確保激發(fa)樣品等離子(zi)體(ti)超高分辨率和(he)高穩定(ding)率輸出。
《3》滿(man)足各種不(bu)同(tong)材(cai)料的(de)激發(fa)要求。
10、高(gao)速數(shu)據采集:
《1》儀(yi)器(qi)采用高(gao)性能(neng)CCD器(qi)件(jian),紫(zi)外鍍膜技(ji)術(shu)及(ji)高性能(neng)FPGA、DSP及(ji)ARM處理器(qi)。
《2》具有高(gao)速數(shu)據采集分(fen)析功能(neng),並能(neng)自動(dong)實(shi)時監(jian)測(ce)控(kong)制(zhi)光室溫(wen)度、真(zhen)空度(du)、氬氣壓(ya)力(li)、光源、激發(fa)室等模(mo)塊的(de)運行狀態(tai)。
11、以太數(shu)據傳輸:
《1》計(ji)算機和(he)光譜儀(yi)之間(jian)使用以太網卡和(he)TCP/IP協(xie)議,避免電(dian)磁幹(gan)擾,光(guang)纖老化的(de)弊端,同(tong)時計(ji)算機和(he)打印(yin)機(ji)*外置(zhi),方便升(sheng)級和更(geng)換(huan)。
《2》完備(bei)的(de)網絡(luo)系統(tong)。
《3》可以遠(yuan)程(cheng)監(jian)控儀(yi)器(qi)狀(zhuang)態(tai),多通(tong)路操控(kong)系(xi)統控制(zhi)和監(jian)控所(suo)有的(de)儀器(qi)參(can)數(shu)。
12、預制(zhi)工作(zuo)曲(qu)線(xian):
《1》根(gen)據元(yuan)素和材(cai)質對(dui)應的(de)分析程(cheng)序而稍有(you)差(cha)異(yi),激(ji)發(fa)和測(ce)試(shi)參(can)數(shu)儀(yi)器(qi)出廠(chang)時已經調(tiao)節好,根(gen)據分(fen)析程(cheng)序可自(zi)動選擇測(ce)試(shi)條件(jian)。
《2》長(chang)期(qi)以來(lai)工廠(chang)積累(lei)了(le)大量(liang)的(de)經驗以及全(quan)面的(de)標樣庫(ku),儀(yi)器(qi)出廠(chang)時工(gong)廠(chang)預制(zhi)工作(zuo)曲(qu)線(xian),使(shi)用戶(hu)拿(na)到(dao)儀器(qi)後(hou)可投(tou)入使用(yong)。
《3》技(ji)術(shu)規(gui)格(ge)中附(fu)有分析範圍(wei)(並(bing)可根(gen)據用(yong)戶(hu)提(ti)供標樣免費繪制(zhi)或延(yan)長工作(zuo)曲(qu)線(xian))。
13、分(fen)析速度(du)快(kuai)捷(jie):
《1》分(fen)析速度(du)快(kuai)捷(jie),為客戶(hu)節(jie)約了寶貴的(de)時間(jian),20秒(miao)內可測(ce)完所(suo)有通(tong)道(dao)的(de)元(yuan)素成分。
《2》針(zhen)對(dui)不(bu)同(tong)的(de)分析材(cai)料,通(tong)過設置(zhi)預燃時間(jian)及測(ce)量(liang)時間(jian),使儀器(qi)短(duan)時間(jian)達到分析效果。
14、多基(ji)體(ti)分(fen)析
《1》光(guang)路設計(ji)采用羅(luo)欄園結(jie)構,CCD上下(xia)交(jiao)替(ti)排列(lie),保證(zheng)接收(shou)全(quan)部的(de)譜線(xian),不(bu)增(zeng)加(jia)硬(ying)件(jian)設施,即(ji)可實(shi)現多基(ji)體(ti)分(fen)析。
《2》便於(yu)根據生(sheng)產(chan)的(de)需(xu)要增(zeng)加基(ji)體(ti)及(ji)材(cai)料種(zhong)類(lei)和(he)分析元(yuan)素。
《3》相(xiang)比光(guang)電(dian)倍(bei)(PMT)光(guang)譜(pu)儀可大大減低使(shi)用(yong)成本(ben)及(ji)使用(yong)範圍(wei)。

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