光電直(zhi)讀(du)光譜儀產(chan)生(sheng)誤(wu)差的原因(yin)有哪些

壹(yi)、系統(tong)誤(wu)差

       1、標(biao)樣和試(shi)樣(yang)中的含量(liang)和化(hua)學(xue)構成不*壹樣(yang)時(shi)，能夠惹(re)起基(ji)體(ti)線(xian)和剖(pou)析線(xian)的強度改動(dong)，然後引入誤(wu)差。

       2、標(biao)樣和試(shi)樣(yang)的物(wu)理功(gong)能不*壹樣(yang)時(shi)，激起的特(te)征(zheng)譜(pu)線(xian)會有差(cha)異(yi)然後發作系統(tong)誤(wu)差。

       3、澆註形(xing)態的鋼樣(yang)與經由退(tui)火(huo)、淬火(huo)、回火(huo)、熱軋(zha)、鍛(duan)壓形(xing)態的鋼樣(yang)金(jin)屬組(zu)織構造(zao)不壹樣(yang)時(shi)，測出(chu)的數據(ju)會有差(cha)異(yi)。

       4、未知(zhi)元素譜(pu)線(xian)的堆疊(die)攪(jiao)擾。如熔(rong)煉(lian)進(jin)程中參加脫氧劑、除(chu)硫(liu)磷(lin)劑時(shi)，混(hun)入未知(zhi)合(he)金(jin)元素而(er)引入系統(tong)誤(wu)差。

       5、要(yao)消(xiao)除(chu)系統(tong)誤(wu)差，必須(xu)嚴格(ge)按(an)照標準樣(yang)品(pin)制(zhi)備(bei)規(gui)則(ze)要求(qiu)。為了反(fan)省(sheng)系統(tong)誤(wu)差，就需(xu)要(yao)采(cai)用化(hua)學(xue)剖析方法剖析數次(ci)校(xiao)正(zheng)後(hou)果。

    二、偶(ou)爾(er)誤(wu)差與樣品(pin)成分不平(ping)均(jun)有關(guan)的誤(wu)差。

       1、熔(rong)煉(lian)進(jin)程中帶(dai)入攙(chan)雜物(wu)，發(fa)作(zuo)的偏(pian)析等形成(cheng)樣品(pin)元素散布不均(jun)。

       2、試(shi)樣(yang)的缺(que)陷、氣孔(kong)、裂(lie)紋(wen)、砂眼(yan)等。

      3、磨樣紋(wen)路(lu)穿插、試(shi)樣(yang)研磨過(guo)熱、試(shi)樣(yang)磨面放置(zhi)工(gong)夫(fu)太(tai)長和壓上(shang)指(zhi)紋(wen)等要素(su)。

      4、要(yao)削減偶(ou)爾(er)誤(wu)差，就要(yao)精(jing)心取(qu)樣(yang)，消(xiao)除(chu)試(shi)樣(yang)的不平(ping)均(jun)性(xing)及(ji)試(shi)樣(yang)的鍛造(zao)缺(que)陷，也(ye)可以反復剖(pou)析來降低(di)剖(pou)析誤(wu)差。

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