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簡要(yao)描述:光譜直(zhi)讀分析儀(yi)的分析原(yuan)理(li)是將(jiang)光源輻(fu)射(she)出的待(dai)測元素(su)的特征光譜通(tong)過樣品的蒸(zheng)汽(qi)中待測元素(su)的基(ji)態(tai)原(yuan)子(zi)所(suo)吸(xi)收(shou),由發(fa)射(she)光譜被減弱的(de)程(cheng)度,進而(er)求得樣品中待測元素(su)的含(han)量(liang)。它符合(he)郎(lang)珀-比爾定(ding)律(lv) A= -lg I/I o= -LgT = KCL 式中I為透射光強度,I0為發(fa)射(she)光強度,T為透射比,L為光通過原(yuan)子(zi)化器光程(cheng)由於L是(shi)不(bu)變(bian)值所(suo)以(yi)A=KC。
產品型號(hao):
廠(chang)商性質(zhi):生(sheng)產廠家(jia)
更新時(shi)間:2025-12-31
訪(fang) 問(wen) 量(liang): 4118產品分類
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| 品牌 | 其(qi)他(ta)品牌 | 應用領域(yu) | 環保(bao),電(dian)氣,綜合(he) |
|---|
光譜直(zhi)讀分析儀(yi)技術(shu)參數(shu):
光學系(xi)統 | |
光學結(jie)構(gou) | 帕邢(xing)-龍格(ge)結(jie)構(gou)的全譜真空型光學系(xi)統 |
光室溫(wen)度 | 自動控制(zhi)恒溫:35℃±0.5℃ |
波長範(fan)圍(wei) | 160-800nm |
光柵焦(jiao)距(ju) | 350 mm |
光柵刻(ke)線 | 3600 l/mm |
壹級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探(tan)測器 | 多(duo)塊(kuai)高性能線陣CCD |
平均(jun)分辨(bian)率 | 10pm/pixel |
激(ji)發(fa)臺(tai) | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量(liang) | 激(ji)發(fa)時(shi)3-5L/min, 待(dai)機時:無(wu)須待機流量(liang) |
電(dian) 極(ji) | 鎢材(cai)噴(pen)射電(dian)極(ji)技術(shu) |
吹 掃(sao) | 點擊自(zi)吹掃(sao)功能 |
補(bu) 償(chang) | 熱變(bian)形(xing)自補償設計 |
分析間(jian)隙 | 樣品臺分析間(jian)隙:4mm |
激發(fa)光源 | |
類 型 | HEPS數(shu)字(zi)化(hua)固(gu)態(tai)光源 |
頻(pin) 率 | 100-1000Hz |
放(fang)電(dian)電(dian)流(liu) | 1-80A |
特殊(shu)技(ji)術(shu) | 放(fang)電(dian)參(can)數(shu)優化(hua)設計 |
預(yu) 燃(ran) | 高能預(yu)燃(ran)技術(shu) |
數(shu)據采(cai)集(ji)系(xi)統 | |
處理器 | g端ARM處理器,高速(su)數(shu)據同(tong)步采(cai)集(ji)處理 |
接 口(kou) | 基於(yu)DM9000A的以(yi)太數(shu)據傳(chuan)輸 |
電(dian)源(yuan)與環(huan)境(jing)要(yao)求 | |
輸 入(ru) | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時(shi)大700W,待(dai)機狀態40W |
工(gong)作(zuo)溫(wen)度 | 10-30℃(該(gai)溫度範圍(wei)內(nei)溫度變化(hua)不(bu)大於(yu)5℃/h) |
工(gong)作(zuo)濕度 | 20-80% |
尺寸(cun)與重量(liang) | |
主機尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量(liang) | 120Kg |
光譜直(zhi)讀分析儀(yi)主要(yao)特點(dian):
1、可(ke)測定包括(kuo)痕(hen)量(liang)碳(tan)(C),磷(P),硫(S)元素(su),適(shi)用於多(duo)種(zhong)金(jin)屬(shu)基(ji)體(ti),如:鐵基,鋁基,銅(tong)基,鎳(nie)基(ji),鉻(ge)基(ji),鈦(tai) 基,鎂(mei)基,鋅(xin)基,錫基(ji)和鉛(qian)基(ji)。全譜技術(shu)覆蓋(gai)了全元素(su)分析範(fan)圍(wei),可根據(ju)客戶需(xu)要(yao)選擇(ze)通(tong)道(dao)元素(su);
2、分析速(su)度快(kuai)捷,20秒內(nei)測完所(suo)有通(tong)道(dao)的元素(su)成分。針(zhen)對(dui)不(bu)同(tong)的(de)分析材(cai)料,通過設置(zhi)預燃(ran)時間及(ji)標(biao)線,使(shi)儀(yi)器用短的時(shi)間達(da)到好(hao)的分析效果;
3、光學系(xi)統采(cai)用真空恒溫光室, 激(ji)發(fa)時(shi)產生(sheng)的(de)弧(hu)焰(yan)由透鏡直(zhi)接導入(ru)真空光室,實(shi)現(xian)光路直(zhi)通,消除了光路損(sun)耗,提(ti)高檢出限,測定結果準確(que),重現(xian)性(xing)及(ji)長期(qi)穩定(ding)性好(hao);
4、特殊(shu)的(de)光室結(jie)構(gou)設計,使(shi)真空室容(rong)積更小,抽(chou)真空速(su)度不(bu)到普通光譜儀(yi)的壹半;
5、自(zi)動光路校準,光學系(xi)統自(zi)動進行譜線掃(sao)描,確(que)保(bao)接(jie)收(shou)的正確(que)性(xing),免除繁瑣的波峰(feng)掃(sao)描工(gong)作(zuo)。儀(yi)器自動識(shi)別特定(ding)譜(pu)線,與原(yuan)存儲線進行對比,確(que)定(ding)漂移(yi)位置(zhi),找(zhao)出分析線當(dang)前的(de)像(xiang)素位置(zhi)進行測定;
6、開(kai)放(fang)式的電(dian)極(ji)架設(she)計,可(ke)以(yi)調整(zheng)的(de)樣品夾(jia),便於各種(zhong)形(xing)狀(zhuang)和尺寸(cun)的(de)樣品分析;
7、工(gong)作(zuo)曲(qu)線采用標(biao)樣,預做工作(zuo)曲(qu)線,可根據需(xu)要(yao)延伸及(ji)擴展(zhan)範圍(wei),每(mei)條(tiao)曲(qu)線由多(duo)達幾十塊(kuai)標(biao)樣激發(fa)生(sheng)成,自動扣(kou)除幹(gan)擾(rao);
8、HEPS數(shu)字(zi)化(hua)固(gu)態(tai)光源,適(shi)應(ying)各種(zhong)不(bu)同(tong)材(cai)料 ;
9、固(gu)態(tai)吸(xi)附(fu)阱(jing),防(fang)止油(you)氣對光室的(de)汙(wu)染,提高長期(qi)運(yun)行穩定(ding)性(xing);
10、銅(tong)火花(hua)臺底(di)座(zuo),提高散熱性(xing)及(ji)堅固(gu)性(xing)能;
11、合(he)理(li)的(de)氬(ya)氣氣路設(she)計,使(shi)樣品激發(fa)時(shi)氬(ya)氣沖洗時(shi)間(jian)縮短,為用戶節省氬氣,氬氣消耗不(bu)到普通光譜儀(yi)的壹半;
12、采(cai)用鎢材料電(dian)極(ji),電(dian)極(ji)使(shi)用壽命更長,並設(she)計了電(dian)極(ji)自吹掃(sao)功能,清(qing)潔(jie)電(dian)極(ji)更加(jia)容(rong)易;
13、高性能DSP及(ji)ARM處理器,具(ju)有(you)超高速(su)數(shu)據采(cai)集(ji)及(ji)控制(zhi)功能並(bing)自(zi)動實(shi)時監測光室溫(wen)度、真空度、氬氣壓(ya)力、光源、激(ji)發(fa)室(shi)等模塊(kuai)的(de)運行狀況(kuang);
14、儀(yi)器與計算(suan)機之(zhi)間采用以(yi)太網連接(jie),抗(kang)幹(gan)擾(rao)性(xing)能好(hao),外(wai)部計算(suan)機升級與儀(yi)器配置(zhi)無(wu)關(guan),使(shi)儀(yi)器具(ju)有(you)更(geng)好(hao)的適(shi)用性;
15、核心器件全部*,保證(zheng)了儀(yi)器y秀的(de)品質。
光譜分析儀(yi),光譜分析儀(yi),光譜分析儀(yi)
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